噴霧熱解制膜法，是將溶液霧化后噴涂到加熱的基座上，然后在基底上得到想要的物質(zhì)結(jié)構(gòu)。本設(shè)備是由我公司自主研發(fā)的一款超聲噴霧熱解設(shè)備，它配有40KHz 130W的超聲波霧化器、PID控溫的加熱襯底基板、高精度蠕動(dòng)泵以及精密程控的步進(jìn)電機(jī)移動(dòng)機(jī)構(gòu)。本設(shè)備通過(guò)整合設(shè)計(jì)能夠準(zhǔn)確控制溶液出液量、霧粒的噴出速度和霧粒大小等參數(shù)，同時(shí)基底溫度也可以進(jìn)行控制，能夠滿足您的各種試驗(yàn)需求。

此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物，而且在制備透明電極的應(yīng)用中已有相當(dāng)長(zhǎng)的歷史。現(xiàn)在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽(yáng)能電池中得到廣泛的應(yīng)用。

超聲波熱解噴涂機(jī)技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品名稱	自動(dòng)超聲波熱解噴涂
產(chǎn)品型號(hào)	CY-TSC-150×150-T
控制方式	自動(dòng)觸摸屏控制
樣品尺寸	2.54mm*2.54mm
沉積膜	10cm*10cm FTO透明電極
供電電壓	AC110V，60Hz
zui大功率	3.5KW （含壓縮機(jī)+蠕動(dòng)泵約1.5KW）
超聲波霧化器	50KHz 30W
液體粘度	1-50mPa·s（cP）
噴頭行程	X-Y軸 *大180mm
移動(dòng)速度	0-100mm/s （x軸方向）  0-100mm/s（Y軸方向）
加熱襯底基板	200mm X 200mm
zui高溫度	500℃
控溫方式	AI-PID 控溫
排氣裝置	該設(shè)備設(shè)有排氣裝置，以便分解后的氣體可以從排氣口裝置排出
注射方式	大流量注射泵
通信協(xié)議	Windows系統(tǒng)，默認(rèn)通信端口為RS485或RS232