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可編程勻膠機(jī)
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  • 全自動(dòng)勻膠機(jī)旋涂?jī)x 全自動(dòng)勻膠機(jī)旋涂?jī)x是一種基于離心力原理的精密涂覆設(shè)備,通過(guò)程序化控制基片旋轉(zhuǎn)速度、加速度和時(shí)間,實(shí)現(xiàn)液體材料(如光刻膠、...
  • 光刻膠烤膠機(jī) 光刻膠烤膠機(jī)在半導(dǎo)體及相關(guān)領(lǐng)域的光刻工藝中,主要用于光刻膠的烘烤和固化,確保圖案轉(zhuǎn)移的**性和工藝穩(wěn)定性
  • 8英寸晶圓烤膠機(jī) 8英寸晶圓烤膠機(jī)在半導(dǎo)體及相關(guān)領(lǐng)域的光刻工藝中,主要用于光刻膠的烘烤和固化,確保圖案轉(zhuǎn)移的**性和工藝穩(wěn)定性
  • 12英寸聚四氟腔體防腐... 本產(chǎn)品為旋涂?jī)x也稱(chēng)勻膠機(jī),是利用高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力來(lái)涂覆膜料的設(shè)備。本型號(hào)采用工業(yè)級(jí)大功率伺服電機(jī),可實(shí)現(xiàn)更好的穩(wěn)定性...
  • 擺臂勻膠機(jī)旋涂?jī)x 擺臂勻膠機(jī)主要利用離心涂覆原理將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,該工藝在材料研究領(lǐng)域有著廣泛...
  • 全自動(dòng)勻膠機(jī)旋涂?jī)x 旋涂?jī)x是一種實(shí)驗(yàn)室設(shè)備,主要用于制備薄膜材料,其應(yīng)用范圍包括制備太陽(yáng)能電池,制備金屬、半導(dǎo)體、氧化物、聚合物等材料的薄膜...
  • 12寸防腐勻膠機(jī)旋涂?jī)x 12寸防腐勻膠機(jī)旋涂?jī)x可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要應(yīng)用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基...
  • 亞克力八英寸勻膠機(jī)帶蠕... 勻膠機(jī)可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要應(yīng)用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基制作、溶膠凝膠法...
  • 凈化旋涂?jī)x帶加熱臺(tái) 凈化型勻膠機(jī)廣泛用于半導(dǎo)體硅片的勻膠鍍膜等,例如對(duì)大型晶圓、芯片、晶片等進(jìn)行工藝制版時(shí),可用此設(shè)備進(jìn)行各種膠體的表面涂覆...
  • 1000MM勻膠機(jī)旋涂... 勻膠機(jī)旋涂?jī)x是一種用于制備薄膜的儀器,廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、物理學(xué)、化學(xué)等領(lǐng)域。它的主要工作原理是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,利用離...
  • 托盤(pán)定位勻膠機(jī)旋涂?jī)x 勻膠機(jī)旋涂?jī)x可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要應(yīng)用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基制作、溶膠...
  • PP腔體旋涂?jī)x 旋涂?jī)x可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜。主要用于光刻膠旋涂、生物介質(zhì)制備、溶膠-凝膠法制...
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  • 大型勻膠機(jī)旋涂?jī)x 本設(shè)備為大型勻膠機(jī),采用大功率伺服電機(jī),配合高精度驅(qū)動(dòng)器,可實(shí)現(xiàn)對(duì)大尺寸樣品的**勻膠實(shí)驗(yàn)
  • 八英寸聚四氟腔體防腐旋... 勻膠機(jī)旋涂?jī)x可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要應(yīng)用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基制作、溶膠...
  • 不銹鋼腔體八英寸勻膠機(jī)... 勻膠機(jī)可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要應(yīng)用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基制作、溶膠凝膠法...
  • 全自動(dòng)多層鈣鈦礦旋轉(zhuǎn)涂... 全自動(dòng)多層鈣鈦礦旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)適用于鈣鈦礦材料的涂膜,半導(dǎo)體、晶體、光盤(pán)、制版等表面涂覆工藝
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  • 8寸勻膠機(jī)帶6通道獨(dú)立... 勻膠機(jī)可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要應(yīng)用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基制作、溶膠凝膠法...
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