- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
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- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
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- 二合一鍍膜儀
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- 箱式氣氛爐
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- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
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- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
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- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
適合的應(yīng)用:
化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)單晶鉆石
化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)多晶鉆石自支撐厚膜
化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)多晶鉆石薄膜
化學(xué)氣相沉積法制備石墨烯、碳納米管、富勒烯和鉆石膜等各種碳納米薄膜
產(chǎn)品特點(diǎn)：
本產(chǎn)品為不銹鋼腔體式6kw微波等離子體設(shè)備，功率密度高；
水冷式基片臺(tái)和水冷式金屬反映腔，保證系統(tǒng)能長時(shí)間穩(wěn)定工作；
基片溫度以微波等離子體自加熱方式達(dá)到；
真空測量儀表采用全量程真空計(jì)，可**測量本底真空和工作氣體壓強(qiáng)；
真空泵及閥門采用渦輪分子泵(極限真空為1×10-5Pa)和旋片式機(jī)械真空泵(極限真空為1Pa)，系統(tǒng)可自動(dòng)控制沉積氣壓；
配備冷卻水循環(huán)系統(tǒng)，確保裝置高功率下可長時(shí)間**穩(wěn)定運(yùn)行；
系統(tǒng)帶15寸觸摸屏，PLC自動(dòng)控制，可設(shè)置溫度或氣壓恒定，可保存復(fù)用多達(dá)20套工藝文件；
全自動(dòng)工藝控制模塊，可以穩(wěn)定可靠地制備高品質(zhì)鉆石薄膜和晶體
技術(shù)指標(biāo)與特性：
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項(xiàng)目名稱 |
規(guī)格 |
配置 |
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主控單元 |
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PLC 自動(dòng)程控 |
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微波源 |
6kw 2.45Ghz |
微波電源 |
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微波發(fā)生器 |
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波導(dǎo) |
6kw |
三銷釘 |
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模式轉(zhuǎn)換器 |
6kw |
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諧振腔體 |
6kw |
柱形水冷腔體 |
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基臺(tái) |
φ70mm |
電動(dòng)升降 |
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鉆石生長基本參數(shù) |
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7x7mm 37片 8x8mm 29片 9x9mm 21片 10x10mm 13片 |
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MFC（質(zhì)子流量計(jì)） |
5路 |
Ch4 0-500sccm H2 0-500sccm N2 0-500sccm Ar 0-500sccm O2 0-500sccm |
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測溫元件 |
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高精度紅外測溫儀 |
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真空測量 |
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高精度真空計(jì) |
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分子泵 |
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默認(rèn)無/可選 |
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氫氣純化 |
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9N級(jí) |
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水循環(huán) |
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3P水冷機(jī) |
