- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
|
產(chǎn)品型號 |
4面精密微米級制膜器 |
|||||||||||||||
|
主要特點 |
1、采用上等不銹鋼制作，比普通的304不銹鋼更加耐磨耐腐蝕。 2、制備出的薄膜厚度均勻，適用于制備漆膜或厚膜。 |
|||||||||||||||
|
制膜器的精度 |
||||||||||||||||
|
規(guī)格 |
5 |
10 |
15 |
20 |
25 |
37.5 |
50 |
75 |
100 |
125 |
150 |
200 |
250 |
300 |
400 |
500 |
|
精度 |
±1 |
±1 |
±2 |
±2 |
±3 |
±3 |
±3 |
±3 |
±3 |
±4 |
±4 |
±5 |
±5 |
±6 |
±8 |
±10 |
|
制膜器的規(guī)格與參數(shù) |
|||
|
序號 |
涂膜厚度（μm）微米 |
涂抹寬度（㎜） |
總寬度（㎜） |
|
1 |
5-10-15-20 |
80 |
100 |
|
2 |
10-15-20-25 |
|
|
|
3 |
20-40-60-80 |
|
|
|
4 |
25-50-75-100 |
|
|
|
5 |
30-60-90-120 |
|
|
|
6 |
50-75-100-150 |
|
|
|
7 |
50-100-150-200 |
|
|
|
8 |
100-150-200-250 |
|
|
|
9 |
100-200-300-400 |
|
|
|
10 |
250-500-750-1000 |
|
|
|
11 |
20-40-60-80 |
160 |
190 |
|
12 |
25-50-75-100 |
|
|
|
13 |
30-60-90-120 |
|
|
|
14 |
50-100-150-200 |
|
|
|
15 |
100-150-200-300 |
|
|
|
16 |
100-200-300-400 |
|
|
